电子束穿过样品时会携带有样品的信息，tem的成像设备使用这些信息来成像。投射透镜将处于正确位置的电子波分布投射在观察系统上。观察到的图像强度，i，半薄切片检测服务，在假定成像设备---的情况下，近似的与电子波函数的时间平均幅度成正比。若将从样品射出的电子波函数表示为ψ，则不同的成像方法试图通过修改样品射出的电子束的波函数来得到与样品相关的信息。根据前面的等式，可以推出观察到的图像强度依赖于电子波的幅度，同时也依赖于电子波的相位。虽然在电子波幅度较低的时候相位的影响可以忽略不计，但是相位信息仍然非常重要。
电子显微镜与光学显微镜的成像原理基本一样，所不同的是前者用电子束作光源，用电磁场作透镜。另外，由于电子束的穿透力很弱，因此用于电镜的标本须制成厚度约50nm左右的超薄切片。这种切片需要用超薄切片机（ultramicrotome）制作。电子显微镜的放大倍数高可达近百万倍、由照明系统、成像系统、真空系统、记录系统、电源系统5部分构成，如果细分的话：主体部分是电子透镜和显像记录系统，由置于真空中的电子、聚光镜、物样室、 物镜、衍射镜、中间镜、 投影镜、荧光屏和照相机。
现在我们发现束流的设置应该是随着放大倍数而变换的，对于tescan用户来说，比较方便，可以直接从软件中读取当前电镜调节对应的束流，结合视野宽度很容易知道单点像素的大小，从而快速找到束斑与像素匹配的工作条件。既---了没有信息丢失，又---了的束流强度和信噪比。
此外对于ebsd分析也一样，ebsd分析为了追求速度，需要较大束流，而束流增---增大束斑，导致花样重叠无法标定。而tescan用户则可以轻易的根据ebsd的步长来设置束斑大小，---在不会出现花样重叠的情况下束斑达到，采集速度快。
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